成都镀铜的工艺过程：  通过化学反应对金属实施镀铜表面处理！  成都化学镀铜(Eletcroless Plating Copper)通常也叫沉铜或孔化（PTH）是一种自身催化性氧化还原反应。首先用活化剂处理，使绝缘基材表面吸附上一层活性的粒子通常用的是金属钯粒子（钯是一种十分昂贵的金属，价格高且一直在上升，为降低成本现在国外有实用胶体铜工艺在运行），铜离子首先在这些活性的金属钯粒子上被还原，而这些被还原的金属铜晶核本身又成为铜离子的催化层，使铜的还原反应继续在这些新的铜晶核表面上进行。化学镀铜在我们PCB制造业中得到了广泛的应用，目前*多的是用化学镀铜进行PCB的孔金属化。  PCB孔金属化工艺流程如下：    钻孔→磨板去毛刺→上板→整孔清洁处理→双水洗→微蚀化学粗化→双水洗→预浸处理→胶体钯活化处理→双水洗→解胶处理（加速）→双水洗→沉铜→双水洗→下板→上板→浸酸→一次铜→水洗→下板→烘干  随着化学镀技术的进展，多元合金化学镀成为化学镀的研究热点，这一领域的开发将使化学镀镍基合金的应用范围大大拓展。化学镀Ni-P层有非常好的特性，譬如高强度耐磨性，抗腐蚀性质。还根据需要实现了镍与铜、钴、钨等的化学共沉积，以满足合金镀层的高硬度、耐热、耐腐蚀和功能性的要求，使化学镀镍基合金的性质得到了大大的改进。Co的加入可以改进Ni-P镀层磁性，减少剩磁，实现产品的磁性能、高抗腐蚀性和轻重量的要求，这些都是电子产品所必需的。在总结前人工作的基础上，对基体的前处理工艺、镀液的组成及配比，电镀工艺条件等进行了详细的研究。通过对镀层性能和抗腐蚀能力等方面的检测 ，结合机理的分析，成都镀铜厂家得出以下实验结论：    通过查阅大量资料和前期探索试验,改进了镀液组成,获得*佳镀液为: liu酸镍(NiSO4·6H2O):9g/L,次磷酸钠(NaH2PO2·H2O ):50g/L,柠檬酸钠（Na3C6H5O7·2H2O):50g/L,liu酸钴(CoSO4·7H2O):14g/L,liu酸铵((NH4)2SO4·7H2O) :14g/L。对影响化学镀Ni-Co-P合金的工艺条件：温度，时间，还原剂用量的大量试验研究。在此基础上,通过正交设计试验和其结果的分析得出了*佳工艺条件为:镀液温度:75℃ ；电镀时间:2小时 ；pH值为9。镀层性能测试显示:镀层与基体之间结合力良好；镀层细致、均匀、平整、无任何漏镀,而且不仅有很好的实用性，而且还有的装饰性。